Machine de revêtement sous vide poussé

Machine de revêtement sous vide poussé

Détails
La machine de revêtement sous vide poussé permet d'obtenir un revêtement-sans pollution dans un environnement à ultra-vide poussé (<5.0×10⁻⁶ Pa), suitable for the preparation of high-purity films. The equipment adopts a dual-chamber isolation design, combined with plasma cleaning and magnetron sputtering technology, significantly enhancing the adhesion and density of the coating.
Classification des produits
Équipement de revêtement
 
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Description
Paramètres techniques

La machine de revêtement sous vide poussé permet d'obtenir un revêtement-sans pollution dans un environnement à ultra-vide poussé (<5.0×10⁻⁶ Pa), suitable for the preparation of high-purity films. The equipment adopts a dual-chamber isolation design, combined with plasma cleaning and magnetron sputtering technology, significantly enhancing the adhesion and density of the coating. The high vacuum coating machine performs exceptionally well in fields such as high-temperature alloys and aerospace components, with a film layer temperature resistance > 600℃.

 

Avantages techniques :

 

· La machine de revêtement sous vide poussé est équipée d'un système de balayage électromagnétique, filtrant les grosses impuretés particulaires pour assurer l'uniformité du film ;

· Le processus à basse-température (<80℃) avoids damage to the substrate and is suitable for high vacuum coating of sensitive materials;

· Le système de contrôle développé de manière indépendante prend en charge la surveillance-en temps réel de plusieurs paramètres, répondant ainsi aux exigences industrielles strictes.

Domaines d'application : aérospatiale, nouvelles batteries énergétiques, revêtements d'outils haut de gamme, etc.

 

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