Présentation du produit
L'équipement pour couches minces composites PVD est une plate-forme industrielle de dépôt sous vide conçue pour le dépôt de couches minces multi-, d'alliages et de nanocomposites. Intégrant la pulvérisation magnétron et les sources d’arc cathodique dans une seule chambre à vide, le système permet un contrôle précis de la microstructure du film, des contraintes résiduelles et de l’adhésion interfaciale. Conçue pour une production continue et une R&D avancée, la plate-forme s'adapte aux substrats métalliques, céramiques et polymères avec des géométries de chambre évolutives.
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Spécifications techniques
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Paramètre |
Gamme de spécifications |
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Pression de vide ultime |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite) |
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Pression de service |
0,1 Pa - 5.0 Pa |
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Température du substrat |
Température ambiante jusqu'à 800 degrés (boucle fermée-contrôlée par PID) |
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Sources de dépôt |
Configurable : pulvérisation magnétron DC/RF, DC pulsé, arc cathodique filtré |
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Uniformité de l'épaisseur |
< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier |
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Matériau de la chambre |
Acier inoxydable 304L/316L, rectifié mécaniquement et électro-poli (Ra<= 0.4 um) |
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Intégration de l'alimentation |
Générateurs MF (10-100 kHz), générateurs RF (13,56 MHz), polarisation CC pulsée |
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Système de contrôle |
Automate industriel + IPC avec exécution automatisée de recettes, surveillance des verrouillages et enregistrement des données par lots |
Processus de dépôt composite
Le système utilise une architecture hybride de dépôt physique en phase vapeur combinant les technologies de pulvérisation magnétron et d'arc cathodique.
Synergie multi-source :
Le fonctionnement simultané ou séquentiel de plusieurs cathodes permet des transitions de composition abruptes ou graduelles à travers la pile de films.
Pré-nettoyage de la gravure ionique :
Les étapes de nettoyage au plasma RF ou DC éliminent les oxydes natifs et les contaminants de surface avant le dépôt afin de maximiser l'adhérence du revêtement-au-substrat.
Contrôle des dépôts réactifs :
La spectroscopie d'émission optique (OES) en boucle fermée- régule l'injection de gaz réactifs (O2, N2, C2H2) pour maintenir une stœchiométrie stable du composé et prévenir l'empoisonnement de la cible.
Biais du substrat :
Les alimentations à polarisation pulsée synchronisée bombardent le film en croissance avec des ions à haute énergie-, densifiant la microstructure et adaptant la contrainte de compression résiduelle.
Matériaux de films
L'équipement prend en charge un large éventail de matériaux cibles pour des exigences fonctionnelles personnalisées :
Nitrures et carbures de métaux de transition :
TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN pour la résistance à l'usure et à la corrosion.
Systèmes nanocomposites et multicouches :
TiSiN, AlTiSiN, nanocouches métal/céramique pour une dureté extrême et une stabilité thermique à haute -température.
Oxydes conducteurs transparents (TCO) :
ITO, AZO, IGZO pour les applications optoélectroniques et photovoltaïques.
Métaux et alliages purs :
Ti, Cr, Al, Cu, acier inoxydable, NiCr pour les couches de contact électrique et de barrière de diffusion.
Applications
Outils de coupe de précision :
Dépôt de revêtements super-durs à faible-friction (par exemple, TiAlN) sur les plaquettes en carbure, les forets et les fraises en bout-pour prolonger la durée de vie opérationnelle sous des charges thermiques élevées.
Composants automobiles :
Films de réduction de friction-et résistants à l'usure-sur les segments de piston, les pièces d'injection de carburant et les assemblages d'engrenages.
Optoélectronique et affichages :
Couches d'oxyde conductrices à faible-résistivité et haute-transmission pour les panneaux tactiles et les substrats de cellules solaires.
Dispositifs médicaux :
Revêtements biocompatibles et-résistants à l'usure sur les instruments chirurgicaux et les implants orthopédiques.
Personnalisation et configuration du système
Les configurations d'ingénierie sont adaptées aux contraintes spécifiques des installations de production et aux recettes de processus :
Dimensionnement de la chambre :
Options de chambres cylindriques ou rectangulaires allant des systèmes par lots de R&D (diamètre 500 mm) aux systèmes de verrouillage de -charge de production à grande échelle- (1 000 mm+).
01
Sélection de la suite de pompage :
Faire correspondre les surpresseurs Roots, les pompes turbomoléculaires et les pompes cryogéniques en fonction des temps d'arrêt des pompes-et des profils de charge de gaz requis.
02
Fixation du substrat :
Étages de rotation planétaire personnalisés, rotation satellite sur 3-axes ou modules roll-roll-to-roll conçus pour des géométries 3D complexes ou des bandes continues.
03
Niveau d'automatisation :
Configurations de chargement manuel semi--automatisées ou systèmes de transfert sous vide entièrement automatisés avec manipulation robotisée du substrat.
04
Fabrication et contrôle qualité
Détection des fuites :
Chaque chambre à vide est soumise à des tests d'étanchéité au spectromètre de masse à l'hélium jusqu'à un seuil de < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.
Inspection des soudures :
Les soudures latérales sous vide-sont soudées au TIG, meulées et polies, suivies d'une inspection aux rayons X-ou par ressuage sur demande.
Conformité électrique et de sécurité :
Panneaux de commande construits conformément aux normes NFPA 79 ou CE/IEC, dotés de verrouillages matériels pour le débit d'eau, la pression de gaz et la sécurité électrique.
Tests d'acceptation en usine (FAT) :
Les tests avant-expédition comprennent un cycle de séchage continu-de 72-heures, une vérification des performances du vide et un test de dépôt de revêtement à l'aide de recettes spécifiées par le client.
Lignes directrices pour la préparation du site :Un document complet sur les exigences de l'installation a été fourni détaillant les interfaces des services publics (débit/pression d'eau de refroidissement, charge électrique, air comprimé, échappement).
Sur-Mise en service sur site :Les ingénieurs de service sur site effectuent l'alignement mécanique, les contrôles de fuite de vide, les liaisons électriques-et l'étalonnage initial.
Processus de réglage des recettes :Collaboration sur-site avec les métallurgistes clients et les ingénieurs de procédés pour verrouiller les paramètres cibles d'épaisseur, de contrainte et de dureté du film.
Prise en charge du cycle de vie :Interface de diagnostic à distance, inventaire localisé des pièces de rechange et programmes de maintenance préventive programmés.
FAQ
Nous sommes reconnus-comme l'un des principaux fabricants et fournisseurs d'équipements pour couches minces composites PVD en Chine. Si vous envisagez d'acheter un équipement à couche mince composite pvd personnalisé fabriqué en Chine, n'hésitez pas à consulter la liste de prix de notre usine. Pour une consultation sur les prix, contactez-nous.
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