Système de dépôt physique en phase vapeur (PVD) utilisant des arcs électriques localisés à basse tension-et à courant élevé-pour vaporiser des cibles cathodiques solides en plasma entièrement ionisé. Le taux d'ionisation élevé (40 %-80 %) entraîne une liaison dense au niveau atomique-et une contrainte de compression élevée, permettant un dépôt-à taux élevé de revêtements décoratifs et résistants à l'usure-sur l'acier rapide (HSS), les outils de coupe en carbure, les composants automobiles et les dispositifs médicaux.
Spécifications techniques
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Paramètre |
Gamme de spécifications/détails |
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Dimensions de la chambre |
Volume interne personnalisé (Φ 800 × 1 000 mm à Φ 1 500 × 1 600 mm, SUS304/SUS316L à double paroi-refroidi à l'eau-) |
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Pression ultime |
Inférieur ou égal à 5,0 × 10⁻⁴ Pa (configuration turbomoléculaire et pompe à racines/pompe rotative) |
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Pression de service |
0,1 Pa ~ 2,0 Pa (Ar, N₂, C₂H₂, O₂) |
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Sources d'arc cathodique |
4 à 12 sources distribuées circulaires/rectangulaires filtrées ou standards avec pilotage magnétique indépendant |
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Biais du substrat |
Polarisation CC pulsée (0 à -1 000 V réglable, 10 à 100 kHz) |
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Système de chauffage |
Radiateurs radiants à quartz; température de cuisson maximale 500 degrés (uniformité de ± 5 degrés) |
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Architecture de contrôle |
Automate Siemens + PC industriel (IPC) ; exécution automatisée de recettes et remplacement manuel du matériel |
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Alimentation électrique |
Triphasé, 380 V/480 V, 50 Hz/60 Hz (configuré selon les normes régionales) |
Principales fonctionnalités
Haute efficacité d'ionisation :Le taux d'ionisation du plasma atteint 40 %-80 %, garantissant une adhérence supérieure du film-au substrat.
Cathodes modulaires :L'assemblage cible à changement rapide-minimise les temps d'arrêt pour maintenance ; compatible avec les cathodes cylindriques planes et rotatives.
Contrôle du gaz en boucle fermée{{0} :Les régulateurs de débit massique MKS maintiennent des pressions partielles de gaz réactifs précises pour les films composés (TiAlN, TiCN).
Rotation planétaire multi-- :Les entraînements de rotation et de révolution personnalisés garantissent l'uniformité de l'épaisseur (± 5 %) sur les géométries 3D complexes.
Fonctionnement en double-mode :Prend en charge l'intégration de l'évaporation à l'arc CC et de la pulvérisation polarisée pulsée pour les architectures multi-couches.
Configuration du système de vide
Pompes grossières :Combinaison de pompes à racines et à palettes rotatives pour un pompage rapide-de l'atmosphère à 10 Pa.
Pompe à vide poussé :Pompe turbomoléculaire à lévitation magnétique (1 600–3 200 L/s) garantissant une pression de base sans hydrocarbure-.
Vannes et jauges :Vannes pneumatiques à vide poussé-avec verrouillages Pirani et à ionisation à cathode froide pour empêcher le reflux d'huile.
[Guide visuel pour le producteur Web] :Insérez une photo schématique ou claire de la disposition de la plomberie sous vide, mettant en évidence le positionnement de la pompe turbomoléculaire et du robinet-vanne pneumatique.
Matériaux d'évaporation et compatibilité des substrats
Cibles cathodiques standard (pureté supérieure ou égale à 99,95 %)
Métaux de transition :Ti, Cr, Zr, Al, TiAl (rapports atomiques 50/50, 33/67), CrAl, W, Nb, Si.
Alliages et composés :Graphite (pour intercalaires DLC), acier inoxydable.
Compatibilité des substrats et pré-traitement
Matériels:WC-Outils de coupe Co, fraises à tailler, broches, matrices d'emboutissage, moules à injection, alliages de titane (grade 5) et acier inoxydable.
Pré-Traitement :Dégraissage au solvant par ultrasons et nettoyage par bombardement ionique in situ (gravure au plasma Ar⁺) à l'intérieur de la chambre avant dépôt.
Applications
Outils de coupe et de formage :Les revêtements TiN, TiAlN et AlCrN augmentent la dureté de surface à 3 000–3 500 HV, supprimant la cratère thermique et l'usure abrasive.
Composants automobiles :Revêtements-réducteurs de friction pour les segments de piston, les axes d'injection de carburant et les composants d'engrenages.
Implants médicaux :Revêtements durs biocompatibles TiN et ZrN sur les arthroplasties orthopédiques et les vis chirurgicales.
Quincaillerie décorative :Production du spectre de couleurs (laiton doré, or rose, noir bronze, gris titane) via réglage du gaz réactif.
Options de personnalisation
Géométrie de la chambre :Configurations de chargement vertical (monté en fosse-ou au sol-) ou de chargement frontal horizontal-.
Configuration source :Sources de conduits magnétiques à arc cathodique filtré (FAC) pour éliminer les macroparticules pour l'optique ou l'électronique de précision.
Automation:Bras de chargement robotisés, intégration d'amarrage AGV et protocoles d'enregistrement de données MES.
Contrôle qualité et tests en usine
Détection des fuites :Tests au spectromètre de masse à l'hélium sur toutes les chambres et cordons de soudure (inférieur ou égal à 1 × 10⁻⁹ Pa·m³/s).
Sécurité électrique :Résistance d'isolation haute-tension, continuité de la mise à la terre et vérification fonctionnelle du verrouillage API.
Essai (FAT) :Test de fonctionnement à sec continu de 72-heures-plus test de dépôt de revêtement standard évalué via Calo-test (épaisseur) et un testeur de rayures (adhérence).
Dossier de documentation :Schémas électriques, diagrammes P&ID, codes sources PLC, certificats de matériaux et rapports FAT.
Installation et assistance technique
Préparation du site :Dessins d'implantation détaillés, mesures de l'eau de refroidissement et spécifications de distribution électrique fournis 4 semaines avant l'expédition.
Mise en service :Assemblage mécanique sur site, étalonnage du vide et remise des recettes par des ingénieurs de procédés expérimentés.
Entraînement:-Instructions pratiques couvrant la maintenance du matériel, le dépannage du vide et les protocoles de sécurité.
Soutien:Intégration d'un logiciel de diagnostic à distance pour-le dépannage des automates en temps réel, soutenu par un inventaire régional de pièces de rechange.
FAQ
Q : Comment le système contrôle-t-il les macroparticules (gouttelettes) ?
R : Les systèmes standard utilisent des champs de confinement magnétique optimisés pour diriger rapidement les points d’arc. Pour les applications optiques ou ultra-lisse, nous intégrons des conduits magnétiques à arc cathodique filtré (FAC) pour filtrer entièrement les gouttelettes.
Q : Quel est le taux d’utilisation cible et le temps de remplacement ?
R : Les cibles planaires et circulaires atteignent 45 % -60 % d'utilisation. Les cibles sont refroidies à l'eau-et montées via des joints à serrage rapide, permettant le remplacement de la cible dans les 45 minutes.
Q : Quelles sont les exigences en matière de services publics de l'installation ?
A : Alimentation en eau glacée (8 à 15 m³/h, 18 à 22 degrés, 0,2 à 0,3 MPa), air comprimé (0,6 MPa) et alimentation industrielle triphasée stable.
Q : Les recettes de processus existantes peuvent-elles être transférées ?
R : Oui. La plate-forme Siemens IPC permet la saisie directe des paramètres pour le courant d'arc, la tension de polarisation, le débit de gaz et la durée afin de correspondre aux recettes industrielles existantes.
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